仪器信息
仪器中文名称 离子刻蚀沉积系统
仪器编号 08002941
仪器类别 电子光学及离子光学仪
院(系) 电子科学与工程学院
使用单位或实验室名称 微电子与光电子
规格型号 NRP-4000
购置日期 2008-12-22
单价(万元) 199.96
厂家 Nanomaster
主要技术指标 背景真空: 10-5Torr; 8路反应和刻蚀气体;均有流量计精确控制;生长与刻蚀双腔独立;衬底工作温度:700℃。
应用技术领域
学科领域 半导体材料与器件研究。
主要功能 硅基半导体薄膜沉积与等离子体刻蚀。
特色功能
主要附件
样品要求或共享须知 事先预约安排。
自主创新研制所需关键技术
收费标准 暂不共享。
仪器状态 使用 
使用人 徐骏
共享模式
仪器地点 唐仲英楼L316室
仪器管理员
序号 姓名 联系电话 电子邮箱
1 李伟 025-83594184 juantutu@gmail.com
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