仪器信息
仪器中文名称 球形双室激光分子束外延系统
仪器编号 15007011
仪器类别 真空镀膜机及附属装置
院(系) 物理学院
使用单位或实验室名称 固体微结构国家重点实验室
规格型号 LMB045BB
购置日期 2015-12-15
单价(万元) 70
厂家 中国科学院沈阳科学仪器股份有限
主要技术指标 1. 系统主要部件由真空腔室(外延室、进样室)、样品传递机构、样品架、立式旋转靶台、基片加热台、抽气系统、真空测量、工作气路、电控系统、计算机控制等各部分组成,另外配备差分式高能电子衍射仪、四极质谱仪等薄膜生长监控设备。
2. 外延室极限真空优于9×10-9 Pa(经烘烤除气后;镀膜基片尺寸:Ф51mm,基片加热最高温度 800℃±1℃;靶组件为垂直结构,靶材最大尺寸Φ70mm, 每次可以装四块靶材,每块靶材可实现自转,磁力耦合传动;进样室极限真空优于:6×10-4 Pa(经烘烤除气后),样品能通过磁力样品传输杆送至外延室进行镀膜操作。
3. 差分式高能电子衍射仪最高能量25 kV,最大束流100μA,并配有RHEED强度振荡,生长速率监测系统。
4. 四极质谱仪测量分子质量数范围是1---100
5. 计算机控制系统控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫描等
应用技术领域 A 信息技术;
学科领域 材料物理
主要功能 本设备和结合计划采购的高能脉冲激光器进行脉冲激光沉积(PLD)法生长复合材料的薄膜,即用高能量脉冲激光冲击配比完善的靶材,轰击出来的物质按照原有化学计量在本设备所提供的真空或者气氛中沉积在基片表面,形成薄膜。 本设备提供了样品制备的腔体,使得靶材、基片都处于比较高的真空之中,提供适合的样品生长温度、气氛条件等,可以用来进行脉冲激光沉积。在进样放基片时可以将基片放置在进样室内,减少空气进入外延室造成的样品制备腔的污染。配备的差分式高能电子衍射仪通过衍射斑纹监控薄膜生长的状况和质量。
特色功能
主要附件
样品要求或共享须知
自主创新研制所需关键技术
收费标准
仪器状态 使用 
使用人 闻海虎
共享模式
仪器地点
仪器管理员
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1 杨欢 huanyang@nju.edu.cn
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